中國平板顯示行業(yè)影響力持續(xù)增強(qiáng)。平板顯示作為電子信息產(chǎn)業(yè)的“糧食產(chǎn)業(yè)”，其發(fā)展水平是個國家的科技實(shí)力和競爭力的重要體現(xiàn)?；仡欉^去5年，我國平板顯示產(chǎn)業(yè)保持較快增長態(tài)勢。產(chǎn)業(yè)核心競爭力隨著面板產(chǎn)能、技術(shù)水平的穩(wěn)步提升而逐漸增強(qiáng)。產(chǎn)業(yè)整體規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大，市場份額不斷提高，面板自給率快速攀升，技術(shù)水平與先進(jìn)差距逐漸縮小，產(chǎn)業(yè)發(fā)展進(jìn)入良性循環(huán)軌道。同時也面臨著產(chǎn)能迅速擴(kuò)張帶來結(jié)構(gòu)性過剩壓力、終端產(chǎn)品需求增長趨緩導(dǎo)致產(chǎn)品結(jié)構(gòu)調(diào)整、產(chǎn)業(yè)鏈成熟度不均衡、上游受制于人的發(fā)展瓶頸等不利因素。

 

　　顯示產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展

 

　　新型顯示產(chǎn)業(yè)保持良好發(fā)展態(tài)勢，產(chǎn)業(yè)規(guī)模持續(xù)增長，供給能力明顯提高，技術(shù)創(chuàng)新能力逐步提升，產(chǎn)業(yè)聚集區(qū)初步形成，影響力不斷增強(qiáng)。近年來，隨著新型智能終端、車載顯示產(chǎn)品不斷升，顯示產(chǎn)業(yè)不斷適應(yīng)下游新需求，創(chuàng)新發(fā)展成為顯示行業(yè)主旋律。2016年新型顯示行業(yè)總體保持增長態(tài)勢，顯示面板產(chǎn)值達(dá)到1150億美元，出貨面積2．02億平方米，創(chuàng)新步伐進(jìn)步加快，新應(yīng)用不斷涌現(xiàn)，產(chǎn)品形態(tài)日益豐富，產(chǎn)業(yè)資源整合加快形成。面板企業(yè)不斷淘汰低次代落后產(chǎn)能，新型顯示產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)升進(jìn)入新階段，產(chǎn)業(yè)競爭日趨激烈，我國作為電子制造業(yè)生產(chǎn)基地，個人計算機(jī)、手機(jī)、電視機(jī)產(chǎn)量均位居，世界顯示器件制造中心也加快向中國轉(zhuǎn)移。

 

　　隨著國家大力推進(jìn)“中國制造2025”和“互聯(lián)網(wǎng)＋”戰(zhàn)略，新型顯示產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略地位日益凸顯。2016年在全行業(yè)共同努力下，我國新型顯示行業(yè)發(fā)展向好態(tài)勢更為明顯，實(shí)現(xiàn)了“十三五”良好開局。是技術(shù)水平不斷提升。多項(xiàng)創(chuàng)新產(chǎn)品和新技術(shù)陸續(xù)推出。AMOLED面板小批量出貨，華星光電條11代線開工建設(shè)，京東方98英寸8倍屏應(yīng)用在里約奧運(yùn)會轉(zhuǎn)播。二是產(chǎn)業(yè)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大，2016年我國新型顯示行業(yè)銷售收入達(dá)到2013億元，同比增長20％；出貨面積0．53億平方米，同比增長16．5％。市場占有率由“十二五”初期的3．9％增至27％，面板產(chǎn)業(yè)41條，在建15條，面板供應(yīng)能力得到明顯提升。三是本土配套能力逐步提升。骨干企業(yè)本土化材料覆蓋率超過60％，全年采購金額同比增長35％，玻璃基板在六代線上量產(chǎn)，小尺寸規(guī)模化應(yīng)用，偏光片8．5代線導(dǎo)入中。顯示產(chǎn)業(yè)是新代信息技術(shù)和先進(jìn)制造業(yè)的重要組成域，總體來看，近年來我國顯示產(chǎn)業(yè)不斷蓬勃壯大，并帶動上下游產(chǎn)業(yè)共同發(fā)展，為國民經(jīng)濟(jì)發(fā)展新舊動能轉(zhuǎn)化作出積貢獻(xiàn)。

 

　　顯示技術(shù)進(jìn)步有加

 

　?。ǎ┤嵝燥@示屏

 

　　隨著更先進(jìn)的制造設(shè)備和材料工程技術(shù)的發(fā)展，可彎曲、可折疊以及曲面顯示在電子產(chǎn)品中的應(yīng)用日益豐富，為電子產(chǎn)品制造商帶來了豐厚的獲利機(jī)會。

 

　　對于LCD液晶顯示來說，通常由液晶負(fù)責(zé)控制顯示灰度，三原色濾光片控制顯示顏色，這就要求它們必須對應(yīng)才能顯示正常。而如果用LCD液晶面板來做曲屏，內(nèi)周長與外周長不相等，原來對應(yīng)的液晶和濾光片就會出現(xiàn)位置偏差，從而導(dǎo)致色彩失真，此外還會引起漏光、暗屏重影及雪花等些列問題。因此，對于曲屏來說，以AMOLED為代表的OLED顯示技術(shù)幾乎就成了不二之選。

 

　?。ǘ┯∷@示

 

　　印刷顯示技術(shù)是將印刷電子學(xué)應(yīng)用于顯示域，指以旋涂、絲印（Screen）或噴墨打?。↖nk－jet）等印刷方法，將金屬、無機(jī)材料、有機(jī)材料轉(zhuǎn)移到基板上，制成發(fā)光顯示器件。印刷顯示技術(shù)的終目標(biāo)是實(shí)現(xiàn)全印刷發(fā)光顯示器件，在常溫、常壓下以按需給料方式實(shí)現(xiàn)低成本制造。目前印刷顯示技術(shù)中，采用OLED材料來實(shí)現(xiàn)顯示是主流且比較成熟的技術(shù)。

 

　　印刷OLED顯示是利用現(xiàn)代印刷工藝制造OLED面板的新技術(shù)，目前基于蒸鍍工藝的小分子OLED面板仍然是市售的主流，但蒸鍍工藝、材料和制造成本等制約了大尺寸OLED顯示面板的規(guī)?；瘧?yīng)用，而印刷顯示技術(shù)則具有工藝簡單，材料利用率高，生產(chǎn)成本低，有利于柔性化和大尺寸面板生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。因?yàn)榧夹g(shù)限制，現(xiàn)階段并不能實(shí)現(xiàn)全器件的印刷制作?，F(xiàn)有印刷OLED工藝僅指以印刷的方式制作功能層，如空穴／電子傳輸和EML等。電依然以蒸鍍方式制作。

 

　?。ㄈ┝孔狱c(diǎn)電致發(fā)光

 

　　量子點(diǎn)電致發(fā)光二管的工作原理與有機(jī)電致發(fā)光器件是類似的復(fù)合發(fā)光機(jī)理。QLED電致發(fā)光器件的基本結(jié)構(gòu)和OLED器件也基本樣，即用量子點(diǎn)材料取代有機(jī)發(fā)光器件中的有機(jī)發(fā)光材料。量子點(diǎn)在顯示技術(shù)域的應(yīng)用主要包括兩個方面：基于量子點(diǎn)電致發(fā)光特性的量子點(diǎn)發(fā)光二管顯示技術(shù)（QuantumDotsLightEmittingDiodeDisplays，QLED），基于量子點(diǎn)光致發(fā)光特性的量子點(diǎn)背光源技術(shù)（QuantumDots－BacklightUnit，QD－BLU）。

 

　　利用量子點(diǎn)材料的光致發(fā)光特性制造的背光源可將現(xiàn)有白光LED作為背光源，顯示器件色域覆蓋率從72％提高到110％，大幅度提升顯示器件的色彩表現(xiàn)力。量子點(diǎn)材料非常昂貴，雖然量子點(diǎn)材料的光致發(fā)光應(yīng)用已經(jīng)商業(yè)化，但只是定位于高端市場。對于大面積應(yīng)用還需看量子點(diǎn)材料的降價幅度和速度。量子點(diǎn)電致發(fā)光的應(yīng)用還處于實(shí)驗(yàn)研究階段，從實(shí)驗(yàn)階段到生產(chǎn)階段還需要較長時間，要解決制備工藝、發(fā)光亮度、壽命、效率等多方面問題，因此量產(chǎn)時間很難確定。

 

　?。ㄋ模㊣GZO（氧化物）TFT

 

　　自從2004年報道了柔性和透明的非晶銦鎵鋅氧化物薄膜晶體管（TFT）之后，非晶態(tài)半導(dǎo)體氧化物薄膜晶體管引起了人們的關(guān)注，目前關(guān)于作為TFT背板的非晶氧化物半導(dǎo)體器件已經(jīng)取得了巨大進(jìn)展。這些器件支持高性能平板顯示器（FPD），包括TFT－LCD及有源矩陣有機(jī)發(fā)光二管顯示器（AMOLED）。

 

　　許多FPD制造商如三星、LG、夏普和友達(dá)已經(jīng)在2012年宣布大規(guī)模投資基于氧化物半導(dǎo)體器件的大尺寸AMOLED面板生產(chǎn)。

 

　　穩(wěn)定性是氧化物TFT重要的問題。需要考慮負(fù)／正偏壓、溫度、照明和環(huán)境（濕度）四個方面。從優(yōu)化結(jié)構(gòu)、選擇合適的柵緣體材料、不可滲透的鈍化層、穩(wěn)定的半導(dǎo)體材料和后退火處理幾方面提高穩(wěn)定性。此外，還要對工藝、材料和設(shè)備進(jìn)行非常嚴(yán)格的控制。

 

　?。ㄎ澹┑蜏囟嗑Ч鑄FT

 

　　低溫多晶硅（LowTemperaturePolysilicon，LTPS，以下以LTPS代稱）是平板顯示器域中的又新技術(shù)。繼非晶硅（Amorphous－Silicon，以下以a－Si代稱）之后的下代技術(shù)。

 

　　LTPSTFT的元件結(jié)構(gòu)，有N型和P型兩種，其中的N型TFT，會利用低摻雜型漏（LightlyDopedDrain，LLD）來降低元件的漏電流。LTPSTFT的柵是位于半導(dǎo)體層上方，是所謂的TopGate的結(jié)構(gòu)；非晶硅型TFT的柵是位于半導(dǎo)體層下方，是所謂的BottomGate的結(jié)構(gòu)。這種結(jié)構(gòu)上的不同，使得LTPSTFT在TFTLCD中應(yīng)用時，具有以下幾個優(yōu)勢：溝道串聯(lián)電阻低，柵緣膜厚度小，柵金屬層厚度大，柵與源／漏不重疊。

 

　　知識產(chǎn)權(quán)重視程度加大

 

　　顯示技術(shù)作為技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，長久以來直被日本、韓國等壟斷。顯示面板的制造從原材料的生產(chǎn)，到終面板成像電路的設(shè)計等各個環(huán)節(jié)都存在專利壁壘。

 

　　截至2017年3月9日，京東方向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交且已公開的中國專利申請為2．3063萬件，其中1．3137萬件獲得授權(quán)。2006年，京東方的專利申請量僅有116件，之后逐年遞增，2016年新增中國專利申請且公開的數(shù)據(jù)達(dá)4612件。其中以2010年至2013年的專利申請量增長為迅猛，每年遞增800件至1000多件?？梢?，京東方對自主創(chuàng)新能力和知識產(chǎn)權(quán)給予了高度重視，即使是在2008年到2011年連年虧損的情況下，京東方依然在研發(fā)上投入近30億元。

 

　　利用知識產(chǎn)權(quán)來鼓勵員工創(chuàng)新，降低產(chǎn)品成本，增加企業(yè)利潤，防止竊取研發(fā)成果，使企業(yè)在激烈的競爭中占專利的至高點(diǎn)，從而使企業(yè)在復(fù)雜的經(jīng)濟(jì)環(huán)境中立于不敗之地。